北方华创发布

12英寸先进低压化学气相硅沉积立式炉设备

北方华创发布 SICRIUS PY302 系列 12 英寸低压化学气相硅沉积立式炉设备，面向高端逻辑与存储芯片领域，攻克高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及兼容低温工艺三大瓶颈。

该设备通过低压反应腔等技术实现无缺陷填充与高台阶覆盖率，以全石英腔室等设计将膜厚均匀性和粗糙度控制在原子级，还集成多种先进工艺功能，降低器件缺陷率。

目前，设备已通过多家领先晶圆厂验证，实现规模量产并获重复订单。作为平台型企业，北方华创持续聚焦核心装备技术迭代，助力中国半导体产业发展。

此外，SICRIUS PY302 系列设备还集成了多种先进工艺功能，犹如一个功能强大的“工艺宝库”，能够满足不同类型芯片制造的多样化需求。这些先进功能的协同作用，有效降低了器件缺陷率，进一步提升了芯片的质量和可靠性，为高端逻辑与存储芯片的大规模生产提供了有力支撑。

凭借卓越的技术性能和可靠的产品质量，SICRIUS PY302 系列设备迅速获得了市场的认可。目前，该设备已顺利通过多家领先晶圆厂的严格验证，成功实现规模量产，并赢得了客户的重复订单。这不仅是对北方华创技术实力的高度肯定，也为其在半导体设备市场的进一步拓展奠定了坚实基础。

作为一家具有前瞻性战略眼光和强大创新能力的平台型企业，北方华创始终将核心装备技术的迭代升级作为企业发展的核心驱动力。未来，北方华创将继续加大研发投入，聚焦半导体设备领域的前沿技术，不断推出更多具有自主知识产权和国际竞争力的创新产品，为中国半导体产业的崛起和全球半导体技术的进步贡献更多的智慧和力量。

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